第6章 解鎖

  深夜兩點十七分,崑崙研究院的宿舍樓安靜得像一座空城。

  【寫到這裡我希望讀者記一下我們域名 讀好書上天天看小說,𝖙𝖙𝖐.𝖙𝖜超省心 】

  趙愷的鼾聲從隔壁床鋪傳來,有節奏地起伏著。林遠舟躺在自己的床上,睜著眼睛看天花板。

  他在等趙愷睡熟。

  十分鐘後,鼾聲變得均勻而深沉。林遠舟輕輕坐起身,靠在床頭,閉上了眼睛。

  腦海中的黑暗持續了不到一秒,科技樹便浮現了出來。

  它比第一次看到時更加清晰了。底部那個已解鎖的7nm節點發出柔和而穩定的光芒,像一顆被點亮的恆星。從它出發,三條分支線向上延伸,左線、中線、右線,各自通向不同的方向。

  靈感點計數器穩穩地顯示著一個數字——

  **靈感點:510**

  五百一十。流片成功獲得的500點,加上之前仿真驗證獲得的10點。

  林遠舟的注意力聚焦到左線的下一個節點上。那個節點懸浮在7nm節點的正上方,散發著淡藍色的微光,周圍環繞著一圈緩緩轉動的文字——

  **「5nm先進位程設計 | T2突破級 | 所需靈感點:500 | 狀態:可解鎖」**

  可解鎖。

  林遠舟深吸一口氣。他還記得第一次解鎖節點時的感受——恆星坍縮般的白光爆發,海量知識灌入大腦,那種信息過載的衝擊感像是被一輛高速行駛的列車正面撞上。

  他做好了準備。

  意識」觸碰」了那個節點。

  光芒炸開。

  但這一次的感覺和上次不同。

  上一次,7nm節點的解鎖像是一場暴風雨——猛烈、急促、鋪天蓋地。這一次,5nm節點的知識灌入更像是一條洶湧的大河——體量更大,持續時間更長,但流動的方式更有秩序。

  知識按照某種精確的層級結構湧入他的大腦。

  第一層:5nm製程的基本物理限制——電晶體的溝道長度縮短到5nm以下後,量子隧穿效應會導致嚴重的漏電流。傳統的平面電晶體結構在這個尺度上已經失效了。

  第二層:解決方案——GAA(全環繞柵極)電晶體架構。不是把柵極放在溝道上面或者三面包圍,而是讓柵極像一個環一樣完全包裹住溝道。這種結構可以把漏電流降低三個數量級。

  第三層:工藝實現——GAA架構的製造需要一種全新的工藝流程。從外延生長、納米線刻蝕、到柵極沉積,每一步的工藝參數都精確到了原子層級。

  第四層:最關鍵的一層——光刻膠配方。

  林遠舟的大腦在接收到這層信息時,甚至產生了一種輕微的眩暈感。

  5nm光刻對光刻膠的要求遠超7nm。現有的化學增幅型光刻膠在5nm節點上的解析度已經到了極限,線邊緣粗糙度(LER)會嚴重影響良率。

  而科技樹給出的方案中,包含了一種全新的金屬氧化物光刻膠配方。

  這種光刻膠以錫為基底,摻入特定比例的鉿和鋯氧化物。它的靈敏度是傳統化學增幅光刻膠的五倍,解析度可以做到3nm以下,而線邊緣粗糙度不到現有水平的一半。

  更重要的是——這種光刻膠的核心原料,不依賴任何被西方封鎖的供應鏈。錫礦、鉿礦、鋯礦,華國都有豐富的儲量。一旦掌握了配方,產業化完全可以自主完成。

  但光刻膠只是5nm方案的一部分。更龐大的知識體系還在繼續湧入——GAA架構的標準單元庫設計規範,比蜂巢拓撲更複雜的三維布局布線方法,熱管理的新策略,可靠性驗證的全新框架……

  每一層知識都像是一塊巨大的拼圖,精確地嵌入他大腦中已有的知識結構。7nm的知識是地基,5nm的知識是在這個地基上建起的大廈——兩者之間有嚴格的繼承關係,不是獨立的,而是層層遞進的。

  這讓林遠舟對科技樹的本質有了新的理解。

  它不是一個簡單的」知識資料庫」,更像是一個精心設計的技術路線圖——每個節點的解鎖順序是有邏輯的,前一個節點的知識是後一個節點的基礎。跳過任何一步,後續的知識就無法被有效地理解和運用。

  這就是為什麼要靈感點。科技樹在確保持有者真正掌握了前一個層級的技術,並在現實世界中驗證了它的可行性之後,才允許解鎖下一個層級。

  不是遊戲,是教學。

  嚴格的、不可取巧的教學。

  知識灌入的過程持續了大約四十秒。比上一次的7nm解鎖長了將近一倍。

  等光芒退去,林遠舟睜開眼睛,發現自己已經滿頭大汗,心跳一百五十次以上。襯衫的後背濕透了,貼在身上。

  他大口呼吸了幾下,等心跳降到正常水平,然後低頭看了一眼手——穩的。

  好。

  他重新閉眼,看向科技樹。

  5nm節點已經從」可解鎖」變成了」已解鎖」,發出和7nm節點一樣穩定的光芒。兩個節點之間有一條明亮的光線相連,看起來像是一條發光的紐帶。

  靈感點計數器歸零了——

  **靈感點:10**

  500點解鎖5nm,剩餘10點。

  但這不是他注意到的重點。

  真正讓他的目光停住的,是科技樹左線上出現的一個新東西——一個之前沒有見過的節點。

  它不在主線上,而是從5nm節點的側面分出一條細細的支線,末端連著一個半透明的節點。這個節點的亮度很低,邊緣模糊,像是一團還沒有完全凝聚的光霧。

  周圍的文字也是半透明的,看起來像是還沒有完全」加載」出來——

  **「多重曝光替代方案 | T2突破級 | 所需靈感點:200 | 狀態:可解鎖」**

  多重曝光替代方案。

  林遠舟的心跳又加速了,但這次是因為興奮。

  這個節點——他盯著那幾個字,手指不自覺地攥緊了。

  5nm製程對光刻精度的要求比7nm高了一個量級。7nm可以用阿斯麥集團的DUV光刻機勉強實現,但5nm幾乎必須使用EUV(極紫外)光刻機。而EUV光刻機——全世界只有阿斯麥集團一家能造,一台售價超過一億聯邦幣,而且對華國完全禁運。

  這是華國晶片產業最大的卡脖子環節。不是設計不行,不是工藝不行,是設備買不到。

  沒有EUV光刻機,5nm就是一紙空文。

  但科技樹給出了一條」捷徑」——多重曝光替代方案。

  從名字推測,這個方案的核心思路是用現有的DUV光刻機,通過多次精密對準曝光的方式,達到EUV的等效精度。

  如果這個方案可行——

  林遠舟的呼吸都加快了幾拍。

  華國在晶片領域被卡脖子卡得最狠的地方,不是設計能力——華國有大量優秀的晶片設計工程師,在部分領域的設計水平並不遜色於國際頂尖團隊。真正的瓶頸在製造環節,而製造環節的最大卡點就是光刻機。

  一台EUV光刻機重達180噸,包含超過十萬個零部件,涉及全球五千多家供應商的協作,核心的光源技術被鎖在少數幾家企業手中。這不是靠砸錢就能短期突破的——有人估算過,從零開始研發一台EUV光刻機,至少需要十年和數百億聯邦幣的投入。

  但如果多重曝光替代方案能夠實現——

  華國將完全繞過阿斯麥集團的封鎖。不是用更差的替代品湊合,不是用更長的時間去追趕,而是用一種全新的方法論證明:你的光刻機,我們根本不需要。

  這將是半導體產業歷史上最大的技術路徑顛覆。

  林遠舟盯著那個半透明的節點看了很久。他甚至感覺到手指在微微發抖——不是因為恐懼,而是因為一種難以抑制的興奮。

  200靈感點。他現在只有10點。差了190點。

  靈感點的獲取規則他已經摸清了——技術方案必須在現實中落地才能獲得。7nm流片成功給了他500點,那是因為87%的良率是一個實打實的工程成果。

  要再獲得190靈感點,他需要讓7nm儘快量產。

  量產意味著批量生產,意味著晶片真正進入應用端,意味著改變行業格局——按照科技樹的規則,這樣的成就至少能獲得數百靈感點。

  量產。

  這個目標和科技委沈默給出的時間表不謀而合——三個月內完成量產準備,半年內實現批量供應。

  路徑是清晰的。

  林遠舟收回對科技樹的注意力,睜開眼睛。宿舍里一片黑暗,趙愷的鼾聲依然在有節奏地響著。

  他輕手輕腳地下床,走到書桌前,打開筆記本電腦。屏幕的微光在他的臉上映出一層淡藍色的輪廓。

  他打開一個空白文檔,開始寫——

  不是寫論文,不是寫報告,而是寫一份計劃。

  5nm的完整技術方案已經在他腦子裡了,就像7nm的蜂巢拓撲一樣清晰。但和7nm不同的是,5nm的方案不能一次性拿出來。

  原因很簡單:太快了。

  7nm蜂巢拓撲的」一夜之間」已經足夠讓所有人震驚了。如果他緊接著又拿出一套5nm的完整方案,那就不是」天才」能解釋的了——那是」不可能」。

  他需要控制節奏。

  科技樹的知識可以在一秒鐘內灌入大腦,但在外人看來,任何技術突破都應該有一個」合理的過程」。一夜之間做出蜂巢拓撲已經是極限了——如果他接二連三地拿出顛覆性成果,遲早會有人覺得不對勁。

  錢學禮已經在暗示他的成果」來源可疑」了。如果連陳正華和方明德這樣的人也開始懷疑,那就真的麻煩了。

  所以,先推動7nm量產,在這個過程中積累靈感點和信譽。然後在適當的時機,以」在7nm基礎上的自然延伸」的方式,逐步提出5nm的方案。每一步都要讓外界覺得」合理」——雖然驚人,但合理。

  這是他重生以來制定的第一個中長期計劃。也是他第一次真正意識到——科技樹給了他知識,但如何使用這些知識,需要的不僅僅是技術能力,還有策略和耐心。

  林遠舟在文檔上寫下了一個時間線:

  第一階段(一到三個月):推動7nm量產,獲取靈感點。

  第二階段(三到六個月):解鎖多重曝光節點,啟動5nm預研。

  第三階段(六個月以後):5nm方案落地。

  他看著這個時間線,又在旁邊加了一行字:

  **注意事項:匿名郵件的發件人。另一棵樹。**

  這兩件事他暫時沒有能力處理,但必須保持警覺。

  寫完計劃,林遠舟合上筆記本,靠在椅背上。窗外的天空已經開始發白了——他在科技樹里和筆記本前花的時間比他以為的長。

  」嗯……你又沒睡?」

  趙愷迷迷糊糊的聲音從床上傳來。

  林遠舟轉頭一看,趙愷正用一隻眼睛看著他,另一隻眼睛還沒睜開。

  」做了個夢,醒了就睡不著了。」林遠舟說。

  」什麼夢?」

  」夢見流片失敗了。」

  」呸呸呸!」趙愷一骨碌坐起來,做了個誇張的驅邪手勢,」大早上說什麼呢?87%的良率還能翻車?你這嘴開過光啊?」

  林遠舟被他逗笑了。

  趙愷一邊穿衣服一邊嘟囔:」你最近變了,知道嗎?」

  」哪變了?」

  」以前你就是個悶葫蘆,每天就知道埋頭搞設計,連打招呼都像是在浪費時間。現在你——」趙愷想了想措辭,」怎麼說呢,好像整個人活過來了。眼睛裡有光了。」

  林遠舟沉默了一下。

  」你不覺得奇怪嗎?」他試探性地問。

  」奇怪什麼?」

  」我的變化。一夜之間拿出蜂巢拓撲方案,流片做到87%良率,然後……變了一個人似的。你不覺得這太突然了?」

  趙愷停下了穿衣服的動作,認真地看了他幾秒。

  」遠舟,你是不是想告訴我什麼?」

  空氣安靜了三秒。

  林遠舟張了張嘴,最終還是搖了搖頭。

  」沒有。就是隨便問問。」

  趙愷盯著他看了一會兒,然後笑了。不是那種敷衍的笑,是一種很認真的、帶著信任的笑。

  」你要是不想說,我不問。但不管你是怎麼變的——我覺得挺好的。」

  他拍了拍林遠舟的肩膀。

  」以前那個林遠舟,遲早把自己累死。現在這個——」他豎起一個大拇指,」活得像個人樣了。」

  林遠舟看著趙愷的背影走出宿舍門,嘴角微微上揚。

  」遲早把自己累死」——趙愷不知道,他說的是真話。

  不過,那是上一世的事了。

  這一世,他不打算再死了。

  他有太多事情要做——7nm量產、5nm突破、多重曝光方案、那封匿名郵件的真相,以及……

  他看了一眼手機。他發給蘇晚的那條」上次的事,是我的錯」還掛在對話框裡,已讀,沒有回覆。

  以及那個他上一世用命換來的遺憾。

  林遠舟站起來,拉開窗簾。

  鵬城的清晨,天際線被一層薄薄的金光勾勒出輪廓。遠處的寫字樓群像一排沉默的巨人,等待著新一天的開始。

  他深吸了一口氣,然後走出了宿舍。

  在他的腦海深處,科技樹的5nm節點散發著穩定的光芒。而在它的側面,那個半透明的多重曝光節點在微微閃爍,像是一扇虛掩的門,等待著被推開。

  200靈感點。

  量產7nm,就能拿到。

  路就在腳下。但林遠舟知道,每往前走一步,黑暗中注視著他的眼睛也會越來越多。

  那封郵件上的七個字,像刺一樣扎在他的記憶里——

  」你的樹,長得很快。」

  快不快的,不是別人說了算。

  林遠舟加快了腳步,朝實驗室走去。