第兩百一十五章 確定抄襲

    俞院長繼續說道:「這是林子魚同學的習慣,她每畫一份設計圖都會在上面留下這個痕跡,由於痕跡位置巧妙,一般人不會發覺。」

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    「可這」夏教授還想為劉子為辯解兩句,可是話到嘴邊卻怎麼也說不出口。

    「你再仔細看看這幾張。」

    俞院長索性將林子魚同學其他的圖紙也都拿出來,一一指給了夏教授看。

    夏教授仔細一看,果然每一張圖紙上不起眼的地方都有著一個一模一樣的痕跡。

    一張、兩張還能說是巧合,可十幾張全部擺在他的面前,那就沒有巧合一說了。

    俞院長怒氣沖沖的看著他說道:「劉子為,你現在還有什麼話可說。」

    在俞院長拿出林子魚設計圖紙對比之時,劉子為就感覺到不妙了。

    他沒想到林子魚居然如此狡猾奸詐,就一張小小的圖紙居然有這麼多花樣。

    現在他是人贓並獲,該怎麼辦,劉子為內心一片慌亂,急得腦門上直冒冷汗。

    劉子為突然跪在兩人前面,滿臉懊悔,眼淚鼻涕直流。

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    「院長,教授,我錯了,我也是一時糊塗所以才」

    「這件事情的性質實在過於惡劣,所以對你的懲罰我和夏教授還得再認真商量,你就先回宿舍等著吧。」

    俞院長見他這般模樣,心裡沒有一點波動。

    剛剛自己已經給過他無數次機會,他都沒能好好把握。

    直到最後一刻,他都還在狡辯。

    「教授」劉子為抬起頭,看著夏教授。

    夏教授看著他,心裡痛心萬分,他沒想到劉子為居然做出此等醜事。

    他擺了擺手,示意他趕緊出去,此刻他是一點也不想看到他。

    劉子為無奈,只得起身不情不願的往宿舍走去。

    劉子為回到宿舍,脫下鞋子就往床上躺去。

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    他看著頭頂上的天花板,心裡一直默默祈禱。

    他希望夏教授看在自己這麼多年辛苦工作的份上,能夠饒過他這一次。

    同時,他心裡對林子魚的怨恨又多增加了一層。

    而辦公室里的俞院長等劉子為走後,才開口說道:「老夏,劉子為的人品你今天也看清楚了吧,對於如何處分他你有什麼意見嗎?」

    「開除通報吧,咱們研究所容不下這種品行敗壞之人。」夏教授痛心疾首的說道。

    「好,我的想法跟你一樣,咱們做科學研究的可容不下這種剽竊他人作品的人。」

    俞院長走到夏教授面前,拍了拍他的肩膀,表示贊同。

    很快,兩人就擬出了一份關於劉子為的處分說明,一式兩份。

    當劉子為接到這份處分說明的時候,整個人都愣住了。

    他不知所措的看著夏教授,希望他能對自己網開一面。

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    很可惜,夏教授自始至終從未再看過他一眼。

    夏教授之前對劉子為多有好感,現在就有多憎惡。

    他將處分聲明交給他之後,只說了一句。

    「俞院長規定你在三日之內搬出研究所,從此天高海闊,望你好自珍重。」

    說完最後一句話,夏教授頭也不回的就走了。

    獨留劉子為一人在那裡暗自神傷,懊悔不已。

    林子魚,林子魚,為什麼你老跟我過不去。

    此刻,劉子為心裡對林子魚的仇恨直接達到了頂點。

    他暗暗發誓自己一定不會輕易放過她。

    他緊緊地捏著手裡的處分聲明,看著前方,眼裡全是怨毒。

    很快,關於劉子為剽竊他人設計結構圖妄圖作為自己的作品這件事就被通報給了整個研究所。

    大家知道後都嚇了一跳,尤其是劉子為的舍友。

    兩人住了這麼久他是一點也沒看出來劉子為居然是這種人。

    果然知人知面不知心。

    劉子為走得那天,研究所沒有一個人來送他。

    畢竟出了這種事大家避嫌都來不及,誰也不想跟他沾上。

    劉子為想起自己剛進研究所的時候是何等地意氣風發,那時候他發誓自己一定會有所作為。

    而現在呢,一個人灰溜溜的離開,一副萎靡不振的模樣。

    他沒想到俞院長和夏教授居然這麼無情,完全不念他這麼多年兢兢業業的付出。

    還有研究所的同事們,平日裡一個個假裝跟他關係很好的樣子,見他如今這般潦倒紛紛避他如洪水猛獸。

    總有一天,研究所帶給自己的屈辱,他一定會加倍回報回去。

    劉子為恨恨的看了研究所的大門,然後轉身離去。

    劉子為這件事情除了給研究所其他的助手警醒之外,並沒有給他們的實驗研究帶來多少變化。

    不過還是為大家私底下添了幾分談資。

    這天,林子魚依舊如往日一般在系統實驗室里繼續做研究。

    今天的研究內容是如何提高氮化鎵晶體研究的成功率。

    林子魚經過反覆試驗終於找到了最理想的辦法。

    她研究了雙束流的技術,對實驗裝置重新進行優化和改進。

    緊接著通過反應器中組成的主氣流以高速通過石英噴平行於襯底通入。

    然後在另一側形成輔氣流垂直噴向襯底表面。

    這樣改變了主氣流移動的移動方向,使製造氮化鎵的反應劑能夠與襯底表面更好的接觸。

    同時能直接在基板上生長出氮化鎵膜。